超純水設(shè)備
集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水

工業(yè)用超純水設(shè)備工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→陽床→陰床→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→反滲透設(shè)備→原水箱→純水泵→混床→后置精密過濾器→純水箱→用水點
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;砂碳過濾器→反滲透設(shè)備→原水箱→純水泵→電去離子（EDI）→純水箱→用水點
4、采用反滲透 混合床方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→砂碳過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→混合床→微孔過濾器→用水點

以下為一經(jīng)典18x106Ω•cm工藝流程及圖片：
原水→原水泵→砂碳過濾器→加藥裝置→一級反滲透→中間水箱→PH調(diào)節(jié)裝置→二級反滲透→二級水箱→輸送泵→精密過濾器→TOC去除機→EDI→超純水箱→輸送泵→拋光混床→UV殺菌器→精密過濾器→用水點

工業(yè)用超純水設(shè)備應(yīng)用

爐補給水、除鹽水設(shè)備——各種蒸汽鍋爐、火力發(fā)電廠、熱水爐、石化熱力鍋爐等補給水。

　　中水、廢水回用設(shè)備——石油化工、鋼鐵、市政、紡織印染等工業(yè)領(lǐng)域的中水、廢水回用。

　　電子——單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

　　一般工業(yè)用純水設(shè)備——鍍膜玻璃、電鍍、表面涂裝、紡織印染、工業(yè)配液、工業(yè)產(chǎn)品清洗等用水。

　　生物醫(yī)藥行業(yè)用純水設(shè)備——針劑、粉針劑、大輸液、生化制品用水、無菌水、口服液等符合GMP標準。

　　精細化工行業(yè)用純水設(shè)備——化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。

　　苦咸水淡化、海水淡化設(shè)備。

　　膜分離設(shè)備——藥物分離、回收、濃縮、提純設(shè)備。

　　生活飲用水處理、賓館、樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水設(shè)備、直飲水工程。